ဖိုတိုရီစတစ် ခြုံငုံသုံးသပ်ချက်
Photoresist သို့မဟုတ် photoresist ဟုလည်း လူသိများသော ඒවා သည် UV အလင်း၊ အီလက်ထရွန်ရောင်ခြည်များ၊ အိုင်းယွန်းရောင်ခြည်များ၊ X-ray များ သို့မဟုတ် အခြားရောင်ခြည်များနှင့် ထိတွေ့သောအခါ ပျော်ဝင်နိုင်မှု ပြောင်းလဲသွားသည့် ပါးလွှာသော ဖလင်ပစ္စည်းကို ရည်ညွှန်းသည်။
၎င်းတွင် resin၊ photoinitiator၊ solvent၊ monomer နှင့် အခြားဖြည့်စွက်ပစ္စည်းများ ပါဝင်သည် (ဇယား ၁ ကိုကြည့်ပါ)။ Photoresist resin နှင့် photoinitiator တို့သည် photoresist စွမ်းဆောင်ရည်ကို ထိခိုက်စေသော အရေးကြီးဆုံး အစိတ်အပိုင်းများဖြစ်သည်။ ၎င်းကို photolithography လုပ်ငန်းစဉ်အတွင်း သံချေးမတက်စေသော အပေါ်ယံလွှာအဖြစ် အသုံးပြုသည်။
တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်း မျက်နှာပြင်များကို စီမံဆောင်ရွက်သည့်အခါ သင့်လျော်စွာ ရွေးချယ်ထားသော ဖိုတိုရီစတစ်ကို အသုံးပြုခြင်းဖြင့် မျက်နှာပြင်ပေါ်တွင် လိုချင်သော ပုံရိပ်ကို ဖန်တီးနိုင်ပါသည်။
ဇယား ၁။
| ဖိုတိုရီစတစ် ပါဝင်ပစ္စည်းများ | စွမ်းဆောင်ရည် |
| အရည်ပျော်ပစ္စည်း | ၎င်းသည် photoresist ကို အရည်ပျော်စေပြီး အငွေ့ပျံစေကာ photoresist ၏ ဓာတုဂုဏ်သတ္တိများအပေါ် သက်ရောက်မှု မရှိသလောက်ပင်။ |
| ဖိုတိုအင်တီယေတာ | ၎င်းကို photosensitizer သို့မဟုတ် photocuring agent အဖြစ်လည်း လူသိများပြီး photoresist ပစ္စည်းတွင်ပါဝင်သော photosensitive အစိတ်အပိုင်းတစ်ခုဖြစ်သည်။ ၎င်းသည် free radicals သို့မဟုတ် cations အဖြစ်ပြိုကွဲပြီး သတ်မှတ်ထားသော wavelength ၏ ultraviolet သို့မဟုတ် မြင်နိုင်သောအလင်းစွမ်းအင်ကို စုပ်ယူပြီးနောက် monomers များတွင် ဓာတု cross-linking reactions များကို စတင်နိုင်သော ဒြပ်ပေါင်းတစ်မျိုးဖြစ်သည်။ |
| သစ်စေး | ၎င်းသည် inert polymers များဖြစ်ပြီး photoresist ရှိ မတူညီသောပစ္စည်းများကို စုစည်းထားရန် binder အဖြစ် လုပ်ဆောင်ပြီး photoresist တွင် ၎င်း၏ စက်ပိုင်းဆိုင်ရာနှင့် ဓာတုဗေဒဂုဏ်သတ္တိများကို ပေးစွမ်းသည်။ |
| မိုနိုမာ | ၎င်းကို active diluent များအဖြစ်လည်း လူသိများပြီး polymerizable functional group များပါ၀င်သည့် မော်လီကျူးငယ်များဖြစ်ပြီး polymerization reactions များတွင် ပါဝင်ကာ မော်လီကျူးအလေးချိန်မြင့် resins များဖွဲ့စည်းနိုင်သည်။ |
| ဖြည့်စွက်ပစ္စည်း | ၎င်းကို ဖိုတိုရီဆစ်များ၏ သီးခြားဓာတုဂုဏ်သတ္တိများကို ထိန်းချုပ်ရန် အသုံးပြုသည်။ |
ဖိုတိုရီဆစ်များကို ၎င်းတို့ဖြစ်ပေါ်လာသော ပုံရိပ်ပေါ် မူတည်၍ အဓိကအမျိုးအစားနှစ်ခုခွဲခြားထားသည်- အပေါင်းနှင့် အနုတ်။ ဖိုတိုရီဆစ်လုပ်ငန်းစဉ်အတွင်း၊ ထိတွေ့မှုနှင့် ဖွံ့ဖြိုးတိုးတက်မှုပြီးနောက်၊ အပေါ်ယံလွှာ၏ ပေါ်ထွက်နေသော အစိတ်အပိုင်းများသည် ပျော်ဝင်သွားပြီး မပေါ်ထွက်သေးသော အစိတ်အပိုင်းများကို ချန်ထားခဲ့သည်။ ဤအပေါ်ယံလွှာကို အပေါင်း ဖိုတိုရီဆစ်ဟု သတ်မှတ်သည်။ မပေါ်ထွက်သေးသော အစိတ်အပိုင်းများ ပျော်ဝင်နေချိန်တွင် ပေါ်ထွက်နေသော အစိတ်အပိုင်းများ ကျန်ရှိနေပါက အပေါ်ယံလွှာကို အနုတ် ဖိုတိုရီဆစ်ဟု သတ်မှတ်သည်။ ထိတွေ့မှု အလင်းရင်းမြစ်နှင့် ရောင်ခြည်ရင်းမြစ်ပေါ် မူတည်၍ ဖိုတိုရီဆစ်များကို UV (အပေါင်းနှင့် အနုတ် UV ဖိုတိုရီဆစ်များ အပါအဝင်)၊ နက်ရှိုင်းသော UV (DUV) ဖိုတိုရီဆစ်များ၊ X-ray ဖိုတိုရီဆစ်များ၊ အီလက်ထရွန်ရောင်ခြည် ဖိုတိုရီဆစ်များနှင့် အိုင်းယွန်းရောင်ခြည် ဖိုတိုရီဆစ်များအဖြစ် ထပ်မံခွဲခြားထားသည်။
Photoresist ကို display panel များ၊ integrated circuit များနှင့် discrete semiconductor device များတွင် fine-grained pattern များကို processing တွင် အဓိကအသုံးပြုသည်။ photoresist နောက်ကွယ်မှ ထုတ်လုပ်မှုနည်းပညာသည် ရှုပ်ထွေးပြီး ထုတ်ကုန်အမျိုးအစားများနှင့် သတ်မှတ်ချက်များ အမျိုးမျိုးရှိသည်။ အီလက်ထရွန်းနစ်လုပ်ငန်း၏ integrated circuit ထုတ်လုပ်မှုသည် အသုံးပြုသော photoresist အပေါ် တင်းကျပ်သော လိုအပ်ချက်များကို ချမှတ်ထားသည်။
Ever Ray သည် photocurable resins များ ထုတ်လုပ်ခြင်းနှင့် ဖွံ့ဖြိုးတိုးတက်ခြင်းတွင် အထူးပြုသော အတွေ့အကြုံ နှစ် ၂၀ ရှိသော ထုတ်လုပ်သူဖြစ်ပြီး နှစ်စဉ် ထုတ်လုပ်မှုစွမ်းရည် ၂၀,၀၀၀ တန်၊ ပြည့်စုံသော ထုတ်ကုန်လိုင်းနှင့် ထုတ်ကုန်များကို စိတ်ကြိုက်ပြင်ဆင်နိုင်စွမ်းတို့ဖြင့် ဂုဏ်ယူဝင့်ကြွားပါသည်။ photoresist တွင် Ever Ray တွင် အဓိကအစိတ်အပိုင်းအဖြစ် 17501 resin ရှိသည်။
